Принципиальная схема установок ELTROPULS для обработки в пульсирующей плазме
тел.: +7 915 260-56-26     
Технологии по обработке материалов
в плазме низкого давления.
ГлавнаяELTRO GmbHАзотирование в пульсирующей плазмеГалереяКонтакты
Описание конструктивных узлов установок ELTROPULS
Конструктивные особенности плазменных установок ELTROPULS
Колпаковые печи
Шахтные печи
Системы Eltropuls

Принципиальная схема установок ELTROPULS для обработки в пульсирующей плазме

eltropuls

TL — термоэлемент для замера температуры детали; TC — термоэлемент для замера контрольной температуры.
TW1....TWN — зоны внешнего нагрева

Плазменная установка ELTROPULS состоит из следующих конструктивных узлов: реципиент (термоизолированная печь), цоколь, колпак (колпаковая печь) или крышка (шахтная печь), вакуумная система, газоснабжение, электрический блок и контроллер процесса.

В реципиенте обрабатываемый материал запирается герметично для вакуума, и соответствующие устройства нагрева и охлаждения доводят его до нужной температуры. Практические соображения определяют, будет ли реципиент выполнен как перемещаемый колпак или как шахта (реципиент стационарный, крышка перемещаемая). Соответствующие вводы позволяют подавать электроэнергию — через стенку реципиента к обрабатываемым деталям.

Цоколь служит основанием для реципиента и для требующихся устройств подъема, поворота или других перемещений колпака или крышки.

Вакуумные насосы создают разряжение порядка 1/1000 атмосферного давления. Они также смонтированы на цоколе.

В устройстве, названном газовый бокс, готовится требуемая газовая смесь — в соответствии с заданной программой обработки и устанавливается давление, требуемое для обработки.

Электрический блок, с одной стороны, обеспечивает реципиент энергией, необходимой для нагрева, с другой стороны, оно обеспечивает импульсное постоянное напряжение в соответствии с патентом ELTRO — с наложением импульсов зажигания и поддержания плазмы.

Контроллер процесса координирует все заданные значения внутри установки на базе загруженной программы обработки и процессов в реципиенте.

Общий процесс подразделяется на следующие основные шаги:

— Нагрев
После закрытия установки создается вакуум, и детали нагреваются (до температуры 200-300ºС). Продолжительность откачивания до конечного давления (например, 1Па) составляет примерно 10 — 15 минут.

— Активирование поверхности в плазме
В водородной или водородно-аргонной плазме поверхность деталей активируется «обстрелом частицами». Для этого детали получают напряжение примерно 500-600В с абсолютным давлением около 50 паскалей. Ионы газа "сбивают" микрозагрязнения с поверхности и они через вакуумную систему выводятся из печи.

— Нагрев до температуры обработки
Детали нагреваются до температуры азотирования путем использования энергии плазмы и нагретых стенок.

— Азотирование/нитрокарбюрирование
Температура и продолжительность обработки определяются поставленной задачей (вид нитридного слоя, толщина слоя, свойства). Выбор параметров процесса является функцией цели процесса.

— Оксидирование (опция)
Этот дополнительный шаг проводится после азотирования. На поверхности создаётся тонкая защитная плёнка, которая служит для придания деталям декоративного черного вида, снижения шероховатости и улучшения коррозионной стойкости. При оксидировании общее время процесса удлиняется примерно на два часа.

— Охлаждение
Когда будет достигнуто заданное время выдержки, нагрев стенок отключается.
Скорость охлаждения определяется геометрией деталей и плотностью загрузки, и ее можно регулировать путем выбора метода охлаждения. В специальных случаях целесообразно проводить охлаждение в плазме.

Представленный выше ход процесса является очень обобщенным. Параметры и ход процесса оптимально приспособлены к поставленным задачам.

Состояния установки по времени для садки
eltropuls
тел.: +7 915 260-56-26     
Представительство в РФ: 119334, Москва, ул. Косыгина, д.5, оф. 296